Zakwan, Muhammad Athala (2022) Rancang Bangun Chamber Dari DC Magnetron Sputtering. D3 thesis, Politeknik Negeri Jakarta.
JudulPendahuluandanPenutup.pdf
Restricted to Hanya Staff Repositori
Download (3MB)
ISIBAB2sdBAB4.pdf
Restricted to Hanya Staff Repositori
Download (3MB)
Manuskrip.pdf
Restricted to Hanya Staff Repositori
Download (18MB)
Abstrak
Pemerintah Indonesia saat ini membidik strategi dalam pengembangan PLTS (Pembangkit Listrik tenaga Surya). Pemerintah pun turut mendukung terhadap penguatan pada produksi PLTS untuk dapat mengejar target salah satunya adalah dengan membuat market, sehingga pengembangannya juga bisa dilakukan secara cepat (Kementrian ESDM, 2021). Pembuatan sel surya menggunakan proses Magnetron sputtering telah menjadi pilihan yang tepat karena dapat menghasilkan performansi yang bagus. Problema yang akan dihadapi adalah teknologi magnetron sputtering membutuhkan biaya yang tidak sedikit karena masih dalam proses perkembangan khususnya di negara Indonesia, hal ini mendorong penulis untuk membangun suatu alat magnetron sputtering dengan fokus pada bagian chamber dari DC magnetron sputtering yang dapat berfungsi optimal. Tujuan penelitian ini adalah untuk dapat memberikan capaian kepada pengembangan sel surya dengan mewujudkan alat DC magnetron sputtering. Metode yang digunakan pada chamber DC magnetron sputtering harus secara sistematis dan ilmiah,hal ini untuk dapat tercapainya tujuan dalam membangun chamber dari DC magnetron sputtering dan menyelesaikan masalah yang telah dirumuskan dengan menggunakan metode secara struktural. Seperti penentuan jenis tabung, penentuan material katoda, penentuan jenis magnet yang digunakan, serta simulasi perancangan dengan software solidworks. Pada penelitian ini, rancang bangun chamber berhasil dibuat dengan menggunakan tabung kaca, bahan katoda yang dengan menggunakan stainless steel, dan jenis magnet neodymium yang dapat bertahan hingga suhu 300 oC. kemudian rancangan diuji dengan menggunakan tekanan udara sebesar 10-2 Torr, tekanan udara yang diberikan gas argon sebesar 500 mTorr, lalu diuji dengan suhu pada saat proses sputtering sebesar 300 oC. Total biaya yang dikeluarkan untuk membangun chamber dari DC magnetron sputtering ini adalah sebesar Rp 370.560.
Tipe Dokumen: | Thesis / Skripsi / Tugas Akhir (D3) |
---|---|
Subjek: | 600 – Teknologi (Ilmu Terapan) > 620 Ilmu teknik dan ilmu yang berkaitan > 620 Ilmu teknik dan ilmu yang berkaitan 600 – Teknologi (Ilmu Terapan) > 660 Teknik kimia > 667 Teknologi terkait pembersihan, warna, dan pelapisan 600 – Teknologi (Ilmu Terapan) > 680 Manufaktur untuk penggunaan khusus > 680 Produksi untuk keperluan khusus |
Bidang, Unit, atau Jurusan Yang Ditujukan: | Teknik Mesin > Teknik Mesin D3 |
User ID Pengunggah: | Muhammad Athala Zakwan |
Date Deposited: | 06 Oct 2022 02:21 |
Last Modified: | 06 Oct 2022 02:21 |
URI: | https://repository.pnj.ac.id/id/eprint/9406 |